1. Se voidaan tehdä hafniumtetrakloridin magnesiumin vähentämisestä tai hafniumtetrakloridin lämpömädästä. Raaka-aineina voidaan käyttää myös HFCl4:ää ja K2HFF6:ta. NaCl-KCl-HFCl4: ssä tai K2HFF6: ssa sulatetaan elektrolyyttistä valmistetta, prosessi on samanlainen kuin zirkoniumelektrolyyttinen valmiste.
2. Hafnium ja zirkonium rinnakkaiselo, hafnium-raaka-ainetta ei ole. Hafniumin raaka-aine on karkea hafniumoksidi, joka on erotettu zirkoniumvalmistusprosessista. Hafniumoksidi uutetaan ioninvaihtovastialla ja metallinen hafnium tuotetaan myöhemmin tästä hafniumoksidista samalla tavalla kuin zirkoniumista.
3. Se voidaan valmistaa vähentämällä hafniumtetrakloridia (HfCl4) ja natriumia kuumentamalla.
4. Zirkoniumin ja hafniumin varhaisimmat erottelumenetelmät ovat fluorikompleksisuolojen fraktioitu kiteytys ja fosfaatin fraktioitu saostuminen. Nämä menetelmät ovat hankalia toimia ja rajoittuvat laboratoriokäyttöön. Zirkoniumin ja hafniumin erottamiseksi on ilmaantunut uusia tekniikoita, kuten fraktiotislaus, liuotinuutto, ioninvaihto ja fraktion adsorptio, joista liuottimen uuttamiset ovat käytännöllisempiä. Kaksi yleisesti käytettyä erotusjärjestelmää ovat tiosyanaatti-isoheksanonijärjestelmä ja tributyylifosfaatti - typpihappojärjestelmä. Kaikki edellä mainituilla menetelmillä saadut tuotteet ovat hafniumhydroksidia. Puhdasta hafniumoksidia saadaan kalsinaatiolla. Korkea puhtaus hafnium voidaan saada ionivaihtona.
